多年来，Hellma 氟化钙 一直被用作半导体生产微光刻中的光学关键材料。
CaF2 已成为投影和照明光学器件中准分子激光光学器件的行业标准材料。
CaF2 独特的光学特性使各种高级应用成为可能。

氟化钙镜片是紫外线到近红外线波长（180-8000 nm）的优良材料。与各种红外材料相比，具有更高的平均透过率和更低的色差。在近红外范围内，其GVD很低，因此非常适合一些需要使用飞秒红外脉冲的应用。