Hellma CaF2
Hellma
CLASER XS011#
总体介绍:
多年来,Hellma 氟化钙 一直被用作半导体生产微光刻中的光学关键材料。
主要优势:
1. 广泛应用于248nm和193nm显微成像技术、照明和投影光学。
2. 高纯度氯化钙单晶可制造直径达440mm、厚度达100mm以上的产品。
3. 其高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输和其他准分子波长的材料之一,应用范围广泛。
4. 完成从真空紫外到红外的光学材料应用范围,在130nm到9nm具有优异的透过率。
应用:
由于其卓越的光学质量和在 UV、VIS 和 IR 光谱范围内的出色透射率,Hellma CaF2 可用于多种应用:
1. 红外光学
2. 天文仪器光学
3. 天基光学
4. 显微镜光学
5. 光谱光学
6. 紫外光学
7. 激光窗口
8. 准分子激光光学
9. 微光刻光学
总体介绍:
多年来,Hellma 氟化钙 一直被用作半导体生产微光刻中的光学关键材料。
主要优势:
1. 广泛应用于248nm和193nm显微成像技术、照明和投影光学。
2. 高纯度氯化钙单晶可制造直径达440mm、厚度达100mm以上的产品。
3. 其高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输和其他准分子波长的材料之一,应用范围广泛。
4. 完成从真空紫外到红外的光学材料应用范围,在130nm到9nm具有优异的透过率。
应用:
由于其卓越的光学质量和在 UV、VIS 和 IR 光谱范围内的出色透射率,Hellma CaF2 可用于多种应用:
1. 红外光学
2. 天文仪器光学
3. 天基光学
4. 显微镜光学
5. 光谱光学
6. 紫外光学
7. 激光窗口
8. 准分子激光光学
9. 微光刻光学