Hellma 氟化钙
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Hellma 氟化钙

多年来,Hellma 氟化钙 一直被用作半导体生产微光刻中的光学关键材料。
CaF2 已成为投影和照明光学器件中准分子激光光学器件的行业标准材料。
CaF2 独特的光学特性使各种高级应用成为可能。
状态:
数量:
  • Hellma CaF2

  • Hellma

  • CLASER XS011#

总体介绍:

多年来,Hellma 氟化钙 一直被用作半导体生产微光刻中的光学关键材料。

CaF2 已成为投影和照明光学器件中准分子激光光学器件的行业标准材料。
CaF2 独特的光学特性使各种应用成为可能。


主要优势:

1. 广泛应用于248nm和193nm显微成像技术、照明和投影光学。

2. 高纯度氯化钙单晶可制造直径达440mm、厚度达100mm以上的产品。

3. 其高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输和其他准分子波长的材料之一,应用范围广泛。

4. 完成从真空紫外到红外的光学材料应用范围,在130nm到9nm具有优异的透过率。


应用:

由于其卓越的光学质量和在 UV、VIS 和 IR 光谱范围内的出色透射率,Hellma CaF2 可用于多种应用:

1. 红外光学

2. 天文仪器光学

3. 天基光学

4. 显微镜光学

5. 光谱光学

6. 紫外光学

7. 激光窗口

8. 准分子激光光学

9. 微光刻光学

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