NIKON NIFS-V/NIFS-A/NIFS-U/NIFS-S/NIFS-I
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NIKON NIFS-V/NIFS-A/NIFS-U/NIFS-S/NIFS-I

NIKON NIFS 系列具有均匀的折射率、高透射率和卓越的激光耐用性。
NIFS 系列是基于近 100 年的光学经验开发和制造的。各种等级可用于不同的尺寸和应用,以及多种光学特性,例如波长。
 
状态:
数量:
  • NIKON NIFS-V/NIFS-A/NIFS-U/NIFS-S/NIFS-I

  • NIKON

  • CLASER XS005#

简介:

NIFS系列熔融石英   基于尼康在光学领域 100 多年的经验。具有杂质少、透光性好、耐热性好的特点。

NIFS系列具有优越的光学特性,根据用途和尺寸、使用波长等光学特性,可选择多种等级。


光学等级及特点:

年级 推荐波长 特征
NIFS-V ArF(193纳米) NIFS 系列中的高等级;非常高的激光耐久性
保证高达 ArF 准分子激光 (193 nm) 的透射率
NIFS-A ArF(193纳米) 保证高达 ArF 准分子激光 (193 nm) 的透射率
NIFS-U 氟化钾(248nm) 保证高达 KrF 准分子激光 (248 nm) 的透射率
NIFS-S 紫外线/可见区域 标准NIFS系列牌号
适合使用可见光或 i-line (365 nm) 的光学系统
我们提供大至 2,000 平方毫米的优质材料
NIFS-I 对于非光学应用 用于非光学系统
我们提供大至 2,000 平方毫米的材料


透光范围:

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主要应用:

1.紫外和高功率激光光学

2.半导体/FPD用光掩模基板

3.半导体和FPD光刻系统用透镜、光学元件

4.工业检测设备用镜头、光学元件

5.合成石英玻璃晶片

6.各种器件用基板(如TFT、CCD等)

7.医疗设备光学

8.半导体制造设备光学



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