NIKON NIFS-V/NIFS-A/NIFS-U/NIFS-S/NIFS-I
NIKON
CLASER XS005#
简介:
NIFS系列熔融石英 基于尼康在光学领域 100 多年的经验。具有杂质少、透光性好、耐热性好的特点。
NIFS系列具有优越的光学特性,根据用途和尺寸、使用波长等光学特性,可选择多种等级。
光学等级及特点:
年级 | 推荐波长 | 特征 |
NIFS-V | ArF(193纳米) | NIFS 系列中的高等级;非常高的激光耐久性 保证高达 ArF 准分子激光 (193 nm) 的透射率 |
NIFS-A | ArF(193纳米) | 保证高达 ArF 准分子激光 (193 nm) 的透射率 |
NIFS-U | 氟化钾(248nm) | 保证高达 KrF 准分子激光 (248 nm) 的透射率 |
NIFS-S | 紫外线/可见区域 | 标准NIFS系列牌号 适合使用可见光或 i-line (365 nm) 的光学系统 我们提供大至 2,000 平方毫米的优质材料 |
NIFS-I | 对于非光学应用 | 用于非光学系统 我们提供大至 2,000 平方毫米的材料 |
透光范围:
主要应用:
1.紫外和高功率激光光学
2.半导体/FPD用光掩模基板
3.半导体和FPD光刻系统用透镜、光学元件
4.工业检测设备用镜头、光学元件
5.合成石英玻璃晶片
6.各种器件用基板(如TFT、CCD等)
7.医疗设备光学
8.半导体制造设备光学
简介:
NIFS系列熔融石英 基于尼康在光学领域 100 多年的经验。具有杂质少、透光性好、耐热性好的特点。
NIFS系列具有优越的光学特性,根据用途和尺寸、使用波长等光学特性,可选择多种等级。
光学等级及特点:
年级 | 推荐波长 | 特征 |
NIFS-V | ArF(193纳米) | NIFS 系列中的高等级;非常高的激光耐久性 保证高达 ArF 准分子激光 (193 nm) 的透射率 |
NIFS-A | ArF(193纳米) | 保证高达 ArF 准分子激光 (193 nm) 的透射率 |
NIFS-U | 氟化钾(248nm) | 保证高达 KrF 准分子激光 (248 nm) 的透射率 |
NIFS-S | 紫外线/可见区域 | 标准NIFS系列牌号 适合使用可见光或 i-line (365 nm) 的光学系统 我们提供大至 2,000 平方毫米的优质材料 |
NIFS-I | 对于非光学应用 | 用于非光学系统 我们提供大至 2,000 平方毫米的材料 |
透光范围:
主要应用:
1.紫外和高功率激光光学
2.半导体/FPD用光掩模基板
3.半导体和FPD光刻系统用透镜、光学元件
4.工业检测设备用镜头、光学元件
5.合成石英玻璃晶片
6.各种器件用基板(如TFT、CCD等)
7.医疗设备光学
8.半导体制造设备光学